多介质过滤器是电子行业超纯水预处理的关键设备,主要用于电子元器件、半导体、电路板等生产过程中所需超纯水的前置过滤,可高效去除原水中的悬浮物、胶体、泥沙、有机物、金属离子等杂质,降低水的浊度与SDI值,

多介质过滤器是电子行业超纯水预处理的关键设备,主要用于电子元器件、半导体、电路板等生产过程中所需超纯水的前置过滤,可高效去除原水中的悬浮物、胶体、泥沙、有机物、金属离子等杂质,降低水的浊度与SDI值,为后续反渗透、EDI等超纯水制备工艺提供合格进水,保障超纯水水质达标。设备采用纤维过滤介质与石英砂、无烟煤分层搭配,过滤精度高、吸附能力强,适配电子行业超纯水高洁净度、高精度的过滤需求,广泛应用于电子厂、半导体工厂、电路板生产企业的超纯水制备系统。
该设备主体采用316L不锈钢材质,无杂质析出、无二次污染,过滤介质选用优质纤维、石英砂、无烟煤分层搭配,过滤精度可达到0.1~1μm,支持自动反洗、正洗再生,处理量从10~200m³/h可定制,支持PLC全自动控制,运行稳定、操作便捷,能有效满足电子行业超纯水预处理的严苛要求。
该设备过滤精度高、净化效果稳定,可为电子行业超纯水制备提供合格前置水,保障电子元器件生产质量,是电子行业超纯水预处理的核心设备。
针对电子行业超纯水“高洁净度、高精度、无杂质”的核心需求,多介质过滤器以“纤维分层过滤+高精度截留+自动反洗”为核心工作原理,实现对原水中微量杂质的高效去除,确保后续超纯水制备工艺稳定运行。
过滤阶段:原水在压力作用下进入过滤器罐体,自上而下流经分层填充的过滤介质,上层纤维介质截留水中微量悬浮物、胶体等细小杂质,中层石英砂截留中细颗粒杂质,下层无烟煤吸附有机物、金属离子等污染物,通过多层高精度过滤与吸附协同作用,实现原水深度净化,净化后的水从罐体底部出水口输出,SDI值可控制在3以下,满足后续反渗透、EDI工艺的进水要求。
反洗再生阶段:当过滤介质表面截留的杂质增多,过滤阻力增大、出水水质下降,系统自动启动反洗程序,高压水流自下而上反向冲洗过滤介质,同时配合空气擦洗,快速剥离介质表面的杂质,反洗完成后进行正洗,确保介质层分布均匀,恢复过滤精度,实现介质再生,无需频繁更换过滤介质,保障超纯水预处理连续进行。




该款纤维多介质过滤器专为电子行业超纯水预处理定制,在过滤精度、净化效果、无二次污染等方面具备显著优势,完全契合电子行业超纯水的严苛要求。
1. 过滤精度高,满足超纯水需求:采用纤维+石英砂+无烟煤分层过滤设计,过滤精度可达0.1~1μm,可有效去除原水中的微量悬浮物、胶体、金属离子等杂质,出水SDI值≤3,满足后续超纯水制备工艺的进水要求。
2. 无二次污染,保障水质纯净:主体采用316L不锈钢材质,无杂质析出、无异味,过滤介质选用高纯度材质,无纤维脱落、无析出,确保净化后的水无二次污染,适配电子行业超纯水高洁净度要求。
3. 吸附能力强,去除效果好:纤维介质与无烟煤协同吸附,可有效去除原水中的有机物、金属离子等污染物,进一步提升出水水质,为超纯水制备提供优质前置水。
4. 自动化程度高,运行稳定:支持PLC全自动控制,可实现过滤、反洗、正洗、排渣全流程自动运行,搭配浊度、SDI值监控模块,实时反馈出水水质,运行稳定、故障率低,保障超纯水预处理连续进行。
5. 介质可反洗再生,使用寿命长:配备高效自动反洗+空气擦洗系统,反洗彻底,可快速剥离介质表面杂质,实现介质在线再生,过滤介质使用寿命可达1~2年,大幅降低耗材成本。
6. 结构紧凑,适配电子厂房:整体采用紧凑式设计,占地面积小,适配电子厂房有限的安装空间,安装便捷、调试简单,可与超纯水制备系统无缝衔接。
7. 维护简单,运行成本低:日常维护仅需定期检查过滤介质状态、补充损耗介质,运行能耗低、耗材成本少,长期运行性价比高,适配电子行业规模化生产需求。

1. 过滤精度:超纯水预处理选0.1~1μm,反渗透前置过滤选0.5~3μm,EDI前置过滤选0.1~0.5μm。
2. 处理量:小型电子厂选10~50m³/h,中型电子厂选50~100m³/h,大型半导体工厂选100~200m³/h及以上。
3. 原水性质:含金属离子多的原水选纤维+专用金属吸附介质搭配;含有机物多的原水选纤维+优质活性炭搭配。
4. 水质要求:超纯水要求高的场景选带SDI在线监控机型,实时监测出水水质,确保达标。
5. 控制模式:优先选PLC全自动模式,搭配远程监控与报警功能,实现无人值守,便于超纯水制备系统统一管理。